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MICRO-CONTROLE / Spectra-Physics
Oriel Instrumente zum Positionieren von Photomasken

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214 Telefon: +49-(0) 6151-708-0 • Fax: +49-(0) 6151-708-952 L i c h t q u e l l e n TECHNISCHE INFORMATION LICHTQUELLEN ZUR KALIBRIERUNG ZUBEHÖR FÜR ORIEL LICHTQUELLEN INSTRUMENTE FÜR DIE HALOGEN-LICHTQUELLEN BOGENLICHTQUELLEN DEUTERIUM-LICHTQUELLEN PHOTOLITHOGRAPHIE ORIEL SONNENSIMULATOREN MONOCHROMATOR- UND FASER-ILLUMINATOREN Positioniereinrichtung zum Ausrichten von Photomaske und Flutlichtquelle Zum Aufbau eines kompletten Photolithographiesystems sind zusätzlich zur Belichtungsquelle (siehe Seite 218) vier Komponenten erforderlich: • Positioniereinrichtung zum Ausrichten der Photomaske • Substrat- oder Waferhalter • Photomaskenhalter • Präzisionsschiebetisch Das Substrat oder der Wafer wird mit dem Substrathalter auf der Einspannvorrichtung für die Photomaske befestigt. Mit der Einspannvorrichtung ist eine präzise Positionierung des Wafers in der X, Y und Z Richtung möglich. Darüber wird die Maskenhalterung mit eingeschobener Photomaske geklappt. Der Wafer wird nun mit Mikrometerschrauben an der Maske ausgerichtet. Nach der Ausrichtung werden Wafer und Maske auf einem Präzessionsverschiebetisch an die vorgesehene Stelle zur Belichtung unter die Beleuchtungsquelle bewegt. Die Belichtung erfolgt durch Öffnen und Schließen des Blendenverschlusses. Nach der Belichtung wird die Gruppe wieder an den Ausgangsort manuell zurückgeschoben, um das Substrat zu entnehmen. Präzisionsschlitten Fotomasken- Halter ausrichtbare Maskenbefestigung Wafer-Substrat- Halter Abb. 1 Komponenten des einfachen Photolithographiesystems Positioniereinrichtung zum Ausrichten der Photomasken Das Modell 83210-V ist eine Positioniereinrichtung, die den mit einem Substrathalter montierten Wafer am Maskenhalter für die Photomaske ausrichtet. Substrat- und Maskenhalter müssen getrennt erworben werden. Die Einspannvorrichtung nimmt Substrate von 1 x 1 Zoll (25,4 x 25,4 mm) bis 6 x 6 Zoll (152,4 x 152,4 mm) und entsprechende Masken von 2 x 2 Zoll (50,8 x 50,8 mm) bis 7 x 7 Zoll (177,8 x 177,8 mm) auf. Substratgrößen können durch einfachen Austausch der Substratund Maskenhalter geändert werden. Der Vakuum-Kontaktmodus ist für durchschnittliche Auflösungen bis 2 Mikron zu verwenden. Wenn die Abnutzung der Photomaske kritisch ist, kann kontaktlosen Modus mit einer Auflösung von 25 Mikron gearbeitet werden. Substrat- oder Waferhalter Unsere Substrat- und Waferhalter werden mit Hilfe von Vakuum auf der Positioniereinheit während des Einrichtens und während der Belichtung fixiert. Bei den Substrathaltern werden drei Stifte aus gehärtetem Stahl zur Voreinstellung verwendet. Die Waferhalter haben zwei flache Stellen, an denen der Wafer grob ausgerichtet werden kannn. Diese Halter können Substrate oder Wafer von 1 x 1 Zoll (25,4 x 25,4 mm) bis 6 x 6 Zoll (152,4 x 152,4 mm) mit einer maximalen Dicke von 6,35 mm aufnehmen. Kundenspezifische Größen, z. B. ein Waferhalter für die Positionierung eines Wafers mit einem Durchmesser von 4 Zoll (101,6 mm) und eines zweiten mit 5 Zoll (127 mm) unter einer Maske mit 6 Zoll (152,4 mm) sind auf Anfrage erhältlich. Oriel Instrumente zum Positionieren von Photomasken

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Photomaskenhalter Photomaskenhalter bestehen aus einem Rahmen, der auf die Oberseite und die Kanten der Maske passt, während die Unterseite der Maske auf einer Dichtung aus geschlossenzelligem Neopren liegt. Bei Anlegen eines Vakuums werden Maske und Substrat zueinander gezogen. Masken bis 6,35 mm Dicke werden liegen mechanisch an drei Stiften aus gehärtetem Stahl. Unsere Konstruktion erfordert, dass die Maske eine um 1 Zoll (25,4 mm) größere Kantenlänge hat als das Substrat, z. B. ein Substrat mit 6 x 6 Zoll (152,4 x 152,4 mm) oder ein Wafer mit Durchmesser 6 Zoll (152,4 mm) passt zu einer Fotomaske...

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216 Telefon: +49-(0) 6151-708-0 • Fax: +49-(0) 6151-708-952 L i c h t q u e l l e n TECHNISCHE INFORMATION LICHTQUELLEN ZUR KALIBRIERUNG ZUBEHÖR FÜR ORIEL LICHTQUELLEN INSTRUMENTE FÜR DIE HALOGEN-LICHTQUELLEN BOGENLICHTQUELLEN DEUTERIUM-LICHTQUELLEN PHOTOLITHOGRAPHIE ORIEL SONNENSIMULATOREN MONOCHROMATOR- UND FASER-ILLUMINATOREN Lichtquelle wählen Strahlgröße wählen (2 x 2 bis 10 x 10) Strahlgröße wählen (2 x 2 bis 10 x 10) Strahlgröße wählen (2 x 2 bis 10 x 10) Bestrahlungsstärke wählen (500 W oder 1000 W) Bestrahlungsstärke wählen (500 W oder 1000 W) Bestrahlungsstärke wählen (500 W oder 1000...

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217 Email: [email protected] • Web: newport.com L i c h t q u e l l e n TECHNISCHE INFORMATION LICHTQUELLEN ZUR KALIBRIERUNG ZUBEHÖR FÜR ORIEL LICHTQUELLEN DEUTERIUM-LICHTQUELLEN BOGENLICHTQUELLEN HALOGEN-LICHTQUELLEN INSTRUMENTE FÜR DIE PHOTOLITHOGRAPHIE ORIEL SONNENSIMULATOREN MONOCHROMATOR- UND FASER-ILLUMINATOREN Bestell-Information Es wird empfohlen, vor der Bestellung eines kompletten Photolithographiesystems einen Anwendungsingenieur zu kontaktieren, mit dem die spezifischen Anforderungen besprochen werden können. Positioniereinrichutng für Photomasken Substrathalter Der Substrathalter...

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