Sensoren & Applikationen Halbleiterindustrie Mehr Präzision.

Mehr Präzision in der Halbleiterindustrie

Ätzen & Ionenimplantation Messaufgaben in der Halbleiterindustrie stellen hohe Anforderungen an die eingesetzten Sensoren. Für die gesamte Prozesskette in der Halbleiterherstellung und -Verarbeitung bietet Micro-Epsilon ein breites Portfolio mit hochpräzisen Wegsensoren, die für verschiedene Messaufgaben eingesetzt werden. Unsere Sensoren bewähren sich in sämtlichen Prozessschritten und werden weltweit von führenden Maschinenbauern und Halbleiterproduzenten eingesetzt - beispielsweise in Umgebungen mit hohen Beschleunigungen, mit starken Magnetfeldern und im Ultrahochvakuum. Anwendung finden...

In-house Fertigung mit modernster Ausstattung für schnellste Reaktionszeiten w ^ Jahrzehntelange Erfahrung und Branchen-Knowhow

Warum Micro-Epsilon? Ready for Semicon Aufgrund der hohen Ansprüche, die der Sensorproduktion zugrunde liegen, durchlaufen alle Sensoren und Systeme von Micro-Epsilon komplexe Fertigungs- und Prüfprozesse. Dies betrifft die Auswahl und Platzierung der Elektroniken, die mechanische Fertigung sowie spezielle Prozesstechnologien. Mehr Präzision und Innovation - Made in Germany Beratung, Entwicklung & Produktion aus einer Hand G emeinsam mit unseren Kunden: Qualität und Lösungskompetenz in Serie & OEM Tiefes Technologie- und Applikationswissen Die eingesetzten Verfahren ermöglichen die Herstellung...

 Berührungslose Messungen aus sicherer Distanz  Robuste Sensoren für raue Umgebungen  Hohe Genauigkeit und Signalstab

Überwachung der axialen Bewegung von Innenlochsägen Innenlochsägen werden zum Trennen von Siliziumingots eingesetzt. Dabei wird das Sägeblatt bzw. die Halterung mit Wirbelstromsensoren überwacht. Dank der hohen Grenzfrequenz und der Unempfindlichkeit gegenüber Staub und Schmutz liefern die Sensoren zuverlässige Messwerte der axialen Abweichung des Sägeblatts. Damit wird ein homogener und gleichmäßiger Zuschnitt der Siliziumscheiben sichergestellt. Überwachung der Durchbiegung von Drahtsägen Drahtsägen werden eingesetzt, um Ingots in einem Schritt zu schneiden. Da der Draht hohem Verschleiß unterliegt,...

Hochauflösende Messung bis in den Nanometerbereich Schnelle Messraten für dynamische Prozessüberwachung Ideal zum Regeln und Überwachen der Ma

Positionierung und Ausrichtung von Lithografiemasken Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Je nach Genauigkeitsanforderungen, Bauraum und messtechnischer Spezifikation kommen verschiedene Messverfahren von Micro-Epsilon zum Einsatz und überwachen die hochpräzise Maskenausrichtung und Feinpositionierung Konfokal-chromatische Sensoren überwachen den Spalt zwischen Maske und Glas. Dank der 90°-Bauform können die Sensoren äußerst platzsparend integriert werden. Sensor: confocalDT Weißlicht-Interferometer...

 Berührungslose Messungen mit hoher Dynamik  Hochauflösend bis in den Nanometerbereich  Optische und elektromagnetische Se

Positionsmessung von Linsen und Optiksystemen Hochdynamische Wegsensoren erfassen berührungslos die Position von Linsenelementen und Spiegeln, um größtmögliche Abbildungsgenauigkeit herzustellen. Die Sensoren messen sowohl gegen die metallische Halterung als auch direkt auf die Linse. Somit erfassen die Sensoren die horizontale und vertikale Bewegung einzelner Spiegel, Linsen und Linsenträger. Konfokal-chromatische Sensoren werden eingesetzt, um die Ausrichtung der Optik zu messen. Mehrere Sensoren messen dabei direkt auf die Optik, um die Verkippung nanometergenau zu erfassen. Sensor: confocalDT...

Positionierung beim Waferhandling Berührungslose Messungen mit hoher Präzision Hochauflösende Überwachung von Wafer und Maschinenbewegungen Ideal zum Regeln und Aus

Lagebestimmung beim Waferhandling Beim Handling von Wafern ist die exakte und reproduzierbare Positionierung entscheidend. Beim Zuführen von Wafern prüfen zwei optoCONTROL Laser-Mikrometer den Durchmesser und ermitteln so die horizontale Lage. Dank der hohen Messrate und der hohen Messgenauigkeit liefern die Mikrometer eine zuverlässige Aussage über die Position. Sensor: optoCONTROL 2520 Verkippungsmessung von Wafern Beim Zuführen von Wafern werden Weißlicht-Interferometer eingesetzt, um die horizontale Verkippung von Wafern zu messen. Die Interferometer liefern absolute Abstandswerte bei einer...

Berührungslose Messungen mit Nanometer-Präzision Robust und unempfindlich bei Magnetfeldern, EMV und Beschleunigungen Sensoren ausgelegt für Vakuum

Positionierung der Waferstage Berührungslose Sensoren von Micro-Epsilon werden zur Positionsüberwachung der Waferstage eingesetzt. Dort messen sie die hochdynamischen XYZ-Bewegungen. Die induktiven Wirbelstromsensoren erreichen eine Auflösung im Nanometerbereich. Dank der robusten Bauform und der hohen Dynamik wird die Stageposition auch unter höchsten Beschleunigungen sicher erfasst. Sensor: capaNCDT / eddyNCDT Positionierung der Waferstage mit kapazitiven Sensoren Die kapazitiven Wegsensoren werden zur Feinpositionierung in der Waferstage eingesetzt. Dank triaxialem Aufbau sind die Sensoren...

Schnelle Messung der Spiegelverkippung Hohe Winkelauflösung Bandbreite 1

Überwachung der Spiegelverkippung Micro-Epsilon bietet hochintegrierte Aktorsysteme für anspruchsvolle Umgebungsbedingungen. Ein Beispiel dafür ist der FastSteering-Mirror, der mit optimierten berührungslosen Wegsensoren ausgestattet ist. Dieses mikromechatronische Aktorsystem wird bei der Lithografie sowie beim Vereinzeln eingesetzt, um die schnelle Verkippung von Spiegeln sowie die Strahlstabilisierung zu überwachen. Spiegel mit 20 mm Durchmesser Verschleiß- und reibungsfreie Kippmechanik Spiegelträger Feedbacksystem (Wirbelstr