TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) Generating waveforms.

Flexible Lösungen. Äußerste Genauigkeit. Höchstleistung für reaktives Sputtern, Sputtern von anspruchsvollen Materialien und PECVD-Prozesse. Die Prozessstromversorgungen der TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) eignen sich hervorragend für die plasmagestützte Beschichtung mittels PECVD- und Dual-Kathoden-Sputterprozessen. Zuverlässigkeit und Leistung spielen hierbei eine entscheidende Rolle. Typische Einsatzgebiete sind die Halbleitertechnologie, die Architekturglasbeschichtung, die Photovoltaik-Produktion sowie die Aufbringung dekorativer und verschleißfester Schichten als auch die Herstellung...

TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) Arc-Erkennung – Kriterien Leistung, Spannung, Strom Regulierung bei Netzschwankungen ± 10 % Last 10 % – 100 % lmax Erkennung Anpassbare Stromschwelle [in %] Automatikmodus oder [A] Manueller Modus Dynamische Spannungsveränderung Anpassbare Spannungsschwelle [in %] Für Spannungsabfälle > 100 V Usag Erkennung Anpassbare Spannungsschwelle [in %] Für Spannungsabfälle < 100 V Dynamische Kreuzerkennung: Automatisch Anpassbare Spannungsschwelle [V] und Stromschwelle [A] überwacht Ausgangsspannung und Strom Stapeln von Geräten für größere Leistung Pulsparameter Pulsfrequenz...

TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) Bipolar Trapez Modus

TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) Umgebungsbedingungen Raumtemperatur Relative Luftfeuchtigkeit Schnittstellen Analog / Digital Abmessungen (H x B x T) TruPlasma Bipolar 4010 (G2) Gewicht TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2)

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