V N 1/ 2/4/5/6 G r e n zsta nd- und T r e n n schichtme ssung • A l l spa n n u n g • -40 °C bis + 1 .1 0 0 ° C • Ein ste llba r e Sensibilit ä t • Lau fü be r w a c h u n g • Hygienische Anwendungen • SIL 2 • H oh e Se nsibilitä t ( < 5 g /l - V ibra sil ® ) • N A MUR- Sta nda rd • S ed e d ime i me nte rf a ssung i n Flüssig ke ite n • Obe erf rf lä che nra uig ke it 0,75 μm • Grobkörnige Granul ate und feine Pulver • 1" Anschlussgewinde • Sensibilität 4-stufig einstellbar • Druck fest bis 16 bar CN 4 G re n zsta ndme ssung NB 3/4 Füllsta nd- und T re nnschichtme ssung • E i n s a t z n i c h tmetallische Behälter möglich • E i n s t e l l b a r e S c h a l tv e r zö g e r u n g • Anhaf tungsunempfindlich • C h e m i s c h e B e s t ä n d i g ke i t • M a te ria lie n mit wechse lnde r T e mpe ra tur und Fe uchtig ke it • I nte g rie rte r Ba ndreiniger • Une mpf indlich bei elek tro sta tische r Auf l ad ung • Bis 500.000 M e ss zyk len Be r ü h rungsl oses R adar NG 3 Füllsta nd- und T re nnschichtme ssung • Messbereich bis 120 m • 8 0 G Hz M e s s f r e q u e n z • 3 ° s c h m a l e S t r a h l ke u l e • Integrier te Linsenspülung • UW T Level App • SIL 2 / 3 • Anpassbare Stab- und Seilausführung bis 75 m • 4…20 mA / Hart,, Modbus • D ruckf e st bis 40 bar • UWT Le ve lApp • SI L 2 / 3

• H o h e che mische Bes t ändig ke it • Anhaftungsunempfindlich • R ob u ste Ba uf o rm • - 4 0 ° C bis + 400 ° C • Digitale Version mit LCD • Ko mpa kte Ba uf o rm a b ½ " Anschlussg ew ind e • Hyg ie ne a usf ührung • Be stä ndig e PV D F S ond e • C I P / S I P g e e ig ne t • M 1 2 Ste cke r • I O- Link NR 8 Füllsta ndme ssung • Ein sa t z n ic h t m e t a l l i sch e B e h ä lt e r m ö g l i c h sche • Active Shield • Tr an s is t o r A u s ga ng , Rel ais, P r o fib u s PA • Fü Fürr L e c k a ge e r k e n n u n g • SIL 2 / 3 • 3/4" Prozessanschluss • Te m p e r a t u r l ö s u n g e n...